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摘要：光刻胶行业股票有：安集科技、同益股份、赛微电子、南大光电、晶方科技、光华科技、西陇科学、TCL科技、雅克科技、华特气体、彤程新材、永太科技、安泰科技、苏大维格等。 起源于美国，柯达KTFR光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。195... 光刻胶行业股票有：安集科技、同益股份、赛微电子、南大光电、晶方科技、光华科技、西陇科学、TCL科技、雅克科技、华特气体、彤程新材、永太科技、安泰科技、苏大维格等。 起源于美国，柯达KTFR光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。1950s贝尔实验室尝试开发首块集成电路，半导体光刻胶由此诞生，并成为六七十年代半导体工业的主力体系，为半导体工业发展立下汗马功劳。逻辑支撑跟随摩尔定律，光刻胶不断推进产业演进。i线/g线光刻胶的产业化始于上世纪70年代，KrF光刻胶的产业化也早在上世纪80年代就由IBM完成。 光刻胶行业竞争格局 目前全球的光刻胶生产企业主要集中在日本与美国，在最为尖端的ArF干法光刻胶、ArF浸没式光刻胶和EUV光刻胶产品领域，日本与美国厂商拥有绝对的垄断地位，而我国在这些尖端半导体光刻胶产品上虽有一定的技术储备和产品验证，但是在量产层面完全处于空白。
从全球市场来看，2021年行业CR6约为88%，市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%的市场份额，陶氏化学占据17%的市场份额，韩国东进占据11%的市场份额。
为加快光刻胶国产化进程，实现自主可控，针对国内光刻胶研发、生产现状提出几点发展建议： 1、政府主导整合上游、中游、下游相关企业，给予税收、资金等优惠政策，鼓励企业加大研发投入；政府设立半导体产业链研发中心，加速各环节卡脖子技术研发进度；政府机构简化企业技术中试审批流程，优先推广有潜力产品，做到产品在产线上使，在产线上优化。 2、加强校企联合研发，在高校中设立奖学金奖励大学生参与光刻胶相关研发项目，调整授课内容，积极培育专门人才。 3、提高电子化学品领域研发、生产人员工资待遇，解决人员后顾之忧做到正向积极作用。 4、下游企业在满足生产产能的前提下，优先试用国内光刻胶产品，提供试用反馈报告。只有在实践中运用，才能真正发现问题解决问题，积极促进相关产业的高速健康发展。 |
