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海内又一家企业光刻胶产物取得新希望，上海新阳（300236.SZ）6月30日盘后宣布通告称，公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶已通过客户验证，并取得首笔订单。公司相关认真人暗示，这个产物的开拓和财富化是公司第三大焦点技能——光刻技能的重要偏向之一，首笔订单已经取得，后续该产物将进入财富化阶段。 跟着全球缺芯潮继承伸张，晶圆代工场的扩产势能已传导至财富链上游。而光刻胶作为半导体光刻工艺的焦点质料，仍面对较大缺口。 当下国产光刻胶与海外差距较大，用于出产6英寸硅片的g/i线光刻胶自给率为20%，出产8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不敷5%，制程更高的ArF和EUV胶则尚无量产，中高端光刻胶的市场份额险些被外洋龙头把持。 早前受福岛地动影响，全球光刻胶龙头之一的日本信越化学产能受限，并限制对华出口KrF光刻胶，进一步加剧了海内光刻胶供给告急排场。今朝KrF光刻胶在海内仅有彤程新材（603650.SH）的子公司北京科华实现量产，产能为10吨/年阁下。 限供和缺货也加快了光刻胶在本土下游晶圆厂的验证。除此次宣布通告的上海新阳外，南大光电（300346.SZ）自主研发的ArF光刻胶于克日通过第二家客户验证，并获小批量订单；晶瑞股份（300655.SZ）的KrF光刻胶亦进入客户验证尾期。据业内人士先容，凡是环境下，光刻胶研发投产后，需经12～18个月的客户验证周期。 在国产化良机敦促下，上述公司也在加码半导体光刻胶的相关研发和产能建树。上海新阳和晶瑞股份都在本年上半年购入ASML光刻机，用于湿法ArF光刻胶的研发；彤程新材则在5月宣布通告称，子公司彤程电子投资5.7亿元在上海建树年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目。 |
